TEM用氮化硅薄膜窗口
氮化硅薄膜窗特點(diǎn)
? 低應(yīng)力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有的視野范圍；8nm和15nm厚的無孔氮化硅薄膜適用于TEM超高分辨率的應(yīng)用
? 氮化硅支撐膜：低應(yīng)力的LPCVD非化學(xué)計(jì)量比氮化硅薄膜，良好的平整度、絕緣性和疏水性
? 良好的化學(xué)穩(wěn)定性：圖像分辨率和機(jī)械強(qiáng)度達(dá)到理想的平衡；
? 均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性；
? TEM斷面成像應(yīng)用的特殊窗口：適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口，傾斜度可達(dá)75°
? 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm
? 可應(yīng)用于多種顯微技術(shù)：良好的機(jī)械穩(wěn)定性使得同***種薄膜可應(yīng)用于TEM, SEM, EDX, XPS ａnd AFM 。
? 薄膜和基底耐酸，不會(huì)被溶解：可以在酸性條件或常規(guī)條件下研究、制備樣本
? 可應(yīng)用于高溫試驗(yàn)環(huán)境： >1000° C
? 可提供更對(duì)精確的分析，如樣品中的碳含量，減少污染：可用于無碳環(huán)境中的TEM成像和分析
? 容易清洗：機(jī)械穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗，無有機(jī)物殘留，改善成像質(zhì)量；
? 良好的平整度：良好的納米沉積基底和薄膜，無背景結(jié)構(gòu)適合于SEM成像
? 超凈加工，防止支撐膜上殘留微粒：100***的超凈間內(nèi)包裝
? 框架厚度：200 ａnd 50μm ：200μm是標(biāo)準(zhǔn)的TEM支撐架；50μm是特殊的TEM支撐架
? 標(biāo)準(zhǔn)框架直徑為3mm
? 同***批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性
氮化硅薄膜窗規(guī)格
單窗口系列
窗口類型 | 薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 框架厚度 |
| 20nm | 500x500μm | Φ3mm | 100μm |
20/50nm | 500x500μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 1000x1000μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 100x100μm | Φ3mm | 200μm |
| 15nm | 0.25x0.25mm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm | Φ3mm | 200μm |
200nm | 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm 0.75x0.75mm 1.0x1.0mm | Φ3mm | 200μm |
15/50/200nm | 0.25x0.25mm | Φ3mm | 50μm |
| 50nm /200nm | 0.5x1.5mm | Φ3mm | 50μm |
多窗口系列
窗口類型 | 薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 框架厚度 |
| 50nm | 2x1陣列，100X1500μm | Φ3mm | 200μm |
| 15nm /50nm /200nm | 2x1陣列，100X1500μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 2x1陣列，100X1500μm | Φ3mm | 50μm |
| 10nm /20nm | 3x3陣列，8個(gè)窗口100X100μm， 1個(gè)窗口100X350μm | Φ3mm | 100μm |
10nm | 3x3陣列，8個(gè)窗口250X250μm， 1個(gè)窗口250X500μm | Φ3mm | 100μm |
20nm | 3x3陣列，8個(gè)窗口100X100μm， 1個(gè)窗口100X350μm | Φ3mm | 200μm |
50nm | 3x3陣列，8個(gè)窗口100X100μm， 1個(gè)窗口100X350μm | Φ3mm | 100μm |
| 15nm /50nm /200nm | 3x3陣列，窗口100X100μm， | Φ3mm | 200μm |
50nm | 3x3陣列，窗口100X100μm， | Φ3mm | 50μm |
| 8nm | 單窗口，窗口大?。?.6×0.6mm；25個(gè)網(wǎng)格，氮化硅支撐膜200nm；網(wǎng)格上的氮化硅薄膜8nm；網(wǎng)格大?。?5μm ，網(wǎng)格間距：25μm； | Φ3mm | 200μm |
應(yīng)用簡介：
1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對(duì)同***區(qū)域的交叉配對(duì)表征。
2、大窗口尺寸，適合TEM大角度轉(zhuǎn)動(dòng)觀察。
3、無碳、無雜質(zhì)的清潔TEM觀測平臺(tái)。
4、背景氮化硅無定形、無特征。
5、耐高溫、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，（薄膜直接沉積在窗口上）。
6、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。
7、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。
8、適合做為膠體、氣凝膠、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
